1概论
2材料结构理论
2.1概述
2.2原子结合与结合键
2.3晶体结构与晶体学
2.4准晶、非晶和液晶
2.5材料结构的实验研究
3缺陷物理
3.1概述
3.2点缺陷
3.3原子扩散理论
3.4离子晶体的点缺陷及其导电性
3.5位错
3.6面缺陷
4材料强化
4.1概述
4.2力学试验与材料性能
4.3加工硬化
4.4固溶强化
4.5弥散强化
4.6固态相变强化
4.7复合强化
5导电物理
5.1概述
5.2材料的导电性能
5.3半导体与pn结
5.4半导体的物理效应
5.5半导体陶瓷的缺陷化学理论基础
5.6能带理论的应用
6电介质物理
6.1概述
6.2静电场中的电介质行为
6.3变动电场中电介质的行为及介质损耗
6.4极化弛豫
6.5动态介电系数
6.6固体电介质的电导与击穿
6.7电介质的唯象理论
6.8复介电常数和介电谱的实验研究
7铁电物理
7.1铁电物理的一般性质
7.2铁电体的电畴与电滞回线
7.3铁电相变与晶体的结构变化
7.4铁电体物理效应
7.5铁电物理效应的实验研究
8磁性物理
8.1概述
8.2原子和离子的固有磁矩
8.3物质的抗磁性和顺磁性
8.4铁磁性的“分子场”理论
8.5亚铁磁性“分子场”理论
8.6铁磁体中的磁晶各向异性、磁致伸缩
8.7畴壁与磁畴结构
9材料的相变
9.1概述
9.2相变的基本类型
9.3马氏体相变
9.4铁电相变、铁性相变
9.5有序无序相变
9.6朗道相变理论概要
9.7相变动力学
9.8界面稳定性与形态演变
9.9相变微观理论简介
9.10相变的实验研究
10非晶态物理基础
10.1绪论
10.2非晶态固体的结构
10.3非晶态固体结构模型
10.4非晶态固体的形成
10.5非晶态半导体
11高分子物理
11.1概述
11.2高分子的分子结构
11.3高分子的聚集态结构
11.4高分子的力学性能
11.5高分子的电、光和热学性能
12低维材料结构
12.1薄膜的形成
12.2薄膜的结构与缺陷
12.3薄膜的表面和界面
12.4薄膜的尺寸效应
12.5薄膜和基片的附着和附着力、内应力
12.6磁电阻效应
13超导材料物理
13.1超导材料的基本性质
13.2超导电性的唯象理论
13.3超导电性的微观机制
13.4第Ⅰ类超导体和第Ⅱ类超导体
13.5超导电子的隧道效应
13.6高温超导体
13.7其他类型的超导体
参考文献